Concernant la Microscopie Electronique à Balayage, 2 formules sont proposées :
- Observations effectuées par l’ingénieur responsable du service.
- Formation sur le MEB proposée au chercheur ou à l’étudiant afin qu’il devienne autonome sur l’appareil.
Le MEB est équipé d’un système de lithographie RAITH permettant la fabrication de nanostructures. Sa localisation en salle blanche permet de bénéficier de tout l’environnement indispensable à la nano-fabrication. Cet environnement est accessible aux chercheurs de l’INSP mais également à la communauté scientifique et une formation aux bases de la lithographie RAITH peut leur être dispensée.
Caractéristiques de l’appareillage
- Microscope électronique à Balayage SUPRA 40 ZEISS avec canon à émission de champ
- Tension d’accélération variable en continu de 20V à 30kV
- Détecteur d’électrons secondaires Everhart-Thornley situé dans la chambre, couplage optique au tube photomultiplicateur, grille de polarisation variable entre –250 et +400 Volts
- Détecteur d’électrons secondaires In-Lens haute efficacité, position axiale
Exemples d’observation
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| Nanocubes de MgO obtenus par combustion (équipe « Oxydes en basses dimensions », INSP). | Introduction volontaire d’un défaut planaire sur une opale (Thèse de Phan Ngoc Hong, équipe « Nanostructures et optique », INSP). |